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Monday, 4/22/24 | 12:00 AM | 8:00 AM | 9:00 AM | 10:00 AM | 11:00 AM | 12:00 PM | 1:00 PM | 2:00 PM | 3:00 PM | 4:00 PM | 5:00 PM | 6:00 PM | 7:00 PM | 8:00 PM | 9:00 PM | 10:00 PM | 11:00 PM | ||||||||||||||||
Labcoter 3 (PDS 2010) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
PDMS Room (Group1) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
uMLA | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Critical Point Dryer (Group2) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
AJA EBeam Evaporator (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
AJA Sputtering (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Oxford ICP RIE (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
O2 Plasma Etch (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
ALD (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Acid Bench (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Profiler Dektak XT (Group4) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Laurell Spin Coater (Group4) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Solvent Bench (Group4) |
Tuesday, 4/23/24 | 12:00 AM | 8:00 AM | 9:00 AM | 10:00 AM | 11:00 AM | 12:00 PM | 1:00 PM | 2:00 PM | 3:00 PM | 4:00 PM | 5:00 PM | 6:00 PM | 7:00 PM | 8:00 PM | 9:00 PM | 10:00 PM | 11:00 PM | ||||||||||||||||
Labcoter 3 (PDS 2010) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
PDMS Room (Group1) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
uMLA | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Critical Point Dryer (Group2) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
AJA EBeam Evaporator (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
AJA Sputtering (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Oxford ICP RIE (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
O2 Plasma Etch (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
ALD (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Acid Bench (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Profiler Dektak XT (Group4) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Laurell Spin Coater (Group4) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Solvent Bench (Group4) |
Wednesday, 4/24/24 | 12:00 AM | 8:00 AM | 9:00 AM | 10:00 AM | 11:00 AM | 12:00 PM | 1:00 PM | 2:00 PM | 3:00 PM | 4:00 PM | 5:00 PM | 6:00 PM | 7:00 PM | 8:00 PM | 9:00 PM | 10:00 PM | 11:00 PM | ||||||||||||||||
Labcoter 3 (PDS 2010) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
PDMS Room (Group1) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
uMLA | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Critical Point Dryer (Group2) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
AJA EBeam Evaporator (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
AJA Sputtering (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Oxford ICP RIE (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
O2 Plasma Etch (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
ALD (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Acid Bench (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Profiler Dektak XT (Group4) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Laurell Spin Coater (Group4) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Solvent Bench (Group4) |
Thursday, 4/25/24 | 12:00 AM | 8:00 AM | 9:00 AM | 10:00 AM | 11:00 AM | 12:00 PM | 1:00 PM | 2:00 PM | 3:00 PM | 4:00 PM | 5:00 PM | 6:00 PM | 7:00 PM | 8:00 PM | 9:00 PM | 10:00 PM | 11:00 PM | ||||||||||||||||
Labcoter 3 (PDS 2010) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
PDMS Room (Group1) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
uMLA | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Critical Point Dryer (Group2) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
AJA EBeam Evaporator (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
AJA Sputtering (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Oxford ICP RIE (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
O2 Plasma Etch (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
ALD (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Acid Bench (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Profiler Dektak XT (Group4) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Laurell Spin Coater (Group4) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Solvent Bench (Group4) |
Friday, 4/26/24 | 12:00 AM | 8:00 AM | 9:00 AM | 10:00 AM | 11:00 AM | 12:00 PM | 1:00 PM | 2:00 PM | 3:00 PM | 4:00 PM | 5:00 PM | 6:00 PM | 7:00 PM | 8:00 PM | 9:00 PM | 10:00 PM | 11:00 PM | ||||||||||||||||
Labcoter 3 (PDS 2010) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
PDMS Room (Group1) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
uMLA | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Critical Point Dryer (Group2) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
AJA EBeam Evaporator (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
AJA Sputtering (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Oxford ICP RIE (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
O2 Plasma Etch (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
ALD (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Acid Bench (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Profiler Dektak XT (Group4) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Laurell Spin Coater (Group4) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Solvent Bench (Group4) |
Saturday, 4/27/24 | 12:00 AM | 8:00 AM | 9:00 AM | 10:00 AM | 11:00 AM | 12:00 PM | 1:00 PM | 2:00 PM | 3:00 PM | 4:00 PM | 5:00 PM | 6:00 PM | 7:00 PM | 8:00 PM | 9:00 PM | 10:00 PM | 11:00 PM | ||||||||||||||||
Labcoter 3 (PDS 2010) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
PDMS Room (Group1) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
uMLA | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Critical Point Dryer (Group2) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
AJA EBeam Evaporator (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
AJA Sputtering (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Oxford ICP RIE (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
O2 Plasma Etch (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
ALD (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Acid Bench (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Profiler Dektak XT (Group4) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Laurell Spin Coater (Group4) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Solvent Bench (Group4) |
Sunday, 4/28/24 | 12:00 AM | 8:00 AM | 9:00 AM | 10:00 AM | 11:00 AM | 12:00 PM | 1:00 PM | 2:00 PM | 3:00 PM | 4:00 PM | 5:00 PM | 6:00 PM | 7:00 PM | 8:00 PM | 9:00 PM | 10:00 PM | 11:00 PM | ||||||||||||||||
Labcoter 3 (PDS 2010) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
PDMS Room (Group1) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
uMLA | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Critical Point Dryer (Group2) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
AJA EBeam Evaporator (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
AJA Sputtering (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Oxford ICP RIE (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
O2 Plasma Etch (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
ALD (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Acid Bench (Group3) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Profiler Dektak XT (Group4) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
Laurell Spin Coater (Group4) | |||||||||||||||||||||||||||||||||
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